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歡迎進入大方科技!

激光脫硝氨逃逸在線分析系統


一、項目概述

      脫硝噴氨過程需要準確監測氨逃逸濃度,該款脫硝氨逃逸監測產品是大方科技近十年氨逃逸監測的經典款,擁有上千套成功應用案例。該產品采用傳統抽取式技術路線結合大方科技專利的多次反射技術,具有可靠性高、安裝維護方便測量精度高等特點

二、測量原理

      系統采用可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術進行NH3的測量,以可調諧激光器作為光源,發射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,根據朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關系,從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有極高的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數:

                       

三、測量方案

      根據脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求,產品采用大方科技經典的抽取+多反長光程測量技術煙氣通過采樣系統取樣后經伴熱管線進入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達30米,可大大提高測量精度。 

四、系統特點

1 采用TDLAS技術,不受背景氣體影響

      系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環境中其它成分的干擾。

2 系統無漂移,避免了定期校正需要

      系統采用波長調制光譜技術,并且進行動態的補償,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環境變化的影響,不存在漂移現象。

3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失

      抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱,確保無氨氣吸附損失。

4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測量精度

      系統采用多次反射測量池技術,光程可達30米,極大地提高了測量精度。

5 可靠性高,運行穩定

      分析系統無任何運動部件,極大地增強了可靠性。分析儀采兩級菜單操作,人機交互界面友好,根據界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。自動反吹,可拆卸濾芯,維護方便,運行費用低。

6 安裝調試靈活

      分析系統適合安裝在不同工業環境下,模塊化設計,安裝方便,開機預熱后便可正常運行無需進行現場光路調試。

7 專利技術,便于維護光學器件

      大方科技特有的樣氣室設計,包含維護窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學器件進行清潔,無需重新調節光路,讓維護更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態,可以通過自檢及自恢復,使分析儀重新恢復最佳測量工作狀態。

9 自主知識產權

      大方科技深耕TDLAS技術領域20年,針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發,擁有數十項發明專利和軟件著作權,對產品擁有完全自主知識產權,產品具有高可靠性和適用性。

五、典型應用:

      電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業鍋爐等企業脫硝氨逃逸監測;

      煉焦企業脫硝氨逃逸監測;

      化工廠脫硝氨逃逸監測;

      氨法脫硫氨逃逸監測。

北京大方科技有限責任公司      

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